本設(shè)備采用液氨為原料,經(jīng)過(guò)催化分解后產(chǎn)生H2:N2比為3:1的氫氮混合氣體,加后級(jí)除殘氨及除水裝置后,輸出氣體中殘氨量小于5PPm,露點(diǎn)小于-65℃,可作為高品質(zhì)的還原性氣氛。